网带式氮气氛烧结炉

适用于镍电极片式陶瓷电容器在氮气氛保护下进行端头烧结,适用于厚膜电路板、电阻在氮气氛保护下进行烧铜。

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钟罩式氮气氛烧结炉

适用于镍电极片式陶瓷电容器芯片在氮(氢)气氛下进行高温烧结,使芯片介质成为致密的陶瓷,保证产品各种参数、性能稳定。

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推板式镍电极气氛隧道炉

适用于镍电极片式陶瓷电容器芯片在氮(氢)气氛下进行高温烧结,使芯片介质成为致密的陶瓷,保证产品各种参数、性能稳定,可以连续大批量生产。

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网带式气氛再氧化炉

适用于高容、高压镍电极片式陶瓷电容器芯片快烧工艺,中在氮气氛下进行再氧化工艺烧结,可以代替日本、韩国进口再氧化炉。

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