网带式气氛再氧化炉

网带式气氛再氧化炉


适用于高容、高压镍电极片式陶瓷电容器芯片快烧工艺,中在氮气氛下进行再氧化工艺烧结,可以代替日本、韩国进口再氧化炉。

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技术参数:

烧结产品

片式电容器高容产品

网带宽度

850mm

最高使用温度

1000℃

常用温度

950℃

最大加热功率

310KW

保温功率

187KW

主炉体尺寸

13000x2000x2500(LxWxH)mm

整体外形尺寸

15500x2000x2500(LxWxH)mm

 

技术特点:
*炉膛耐火材料采用轻质无机材料和纳米材料砌筑,节能环保,保温性能优于进口同类设备。
*温区温度独立控制,控温精度高,温度均匀性好。
*炉膛进气采用质量流量计和数显转子流量计控制,气氛控制精准,满足工艺需求。
*网带输送平稳,有自动纠偏功能。
*智能自动化控制系统,可存贮30条工艺曲线,配置远程数据采集、监测功能。
*适合大批量生产,满足客户工艺需求,产品质量稳定。

关键词:

网带式气氛再氧化炉

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